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德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
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刻蚀光栅
刻蚀光栅一、标准的刻蚀光栅规格:刻线/mm闪耀波长nm闪耀角度色散nm/mr12.7x12.7x 625x25x 625x25x 9.530x30x 9.550x50x 9.512.5x25x
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德Sentech经济型反应离子刻蚀机Etchlab200
200可升级为更大的真空泵组,预真空室和更多的气路。 SENTECH控制软件该等离子刻蚀机配备了用户友好的强大软件,具有模拟图形用户界面,参数窗口,工艺编辑窗口,数据记录和用户管理。 Etchlab
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸
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光刻胶
表面。当紫外光或电子束的照射时,光刻胶材料本身的特性会发生改变,经过显影液显影后,曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶将会留在衬底表面,这样就将设计的微纳结构转移到了光刻胶上,而后续的刻蚀、沉积等工艺
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伯东NS离子刻蚀机
离子蚀刻机 20-M/NS-12 主要技术参数:基片尺寸直径 4英寸 X 12片直径 18英寸 X 3片样品台直接冷却离子源20cm 考夫曼离子源电源WELL-5100(可更换为国内电源
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离子束刻蚀/沉积系统
电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。 EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR
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美国Thermo Lumina 荧光光度计
技术参数: 1. 光学部件设计:Czerny-Turner单色器,凹面光栅,20cm焦距, 氟化镁镀层的光学元件 2. 光束设计:水平,5.0mm宽 3.
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GAIA3 model 2016超高分辨双束扫描电镜系统 (FIB-SEM
光学系统设计 ·马达控制的精准样品台,可进行精确的移动或倾转操作 ·Field-free模式下可对磁性样品进行有效观察 ·高达400nA的束流强度 ·停留时间低至20ns的快速电子束刻蚀速度 ·FIB
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日本电子JSM-IT700HR 触摸屏控制热场发射扫描电子镜
主要参数分辨率高真空模式:1.0 nm (20 kV) 3.0 nm (1.0 kV),分析时:3.0 nm (15 kV 入射电流 3 nA), 低真空模式:1.8 nm (15 kV
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